Alta qualidade para o regulador de medição de estágio 2 de oxigênio da China

Alta qualidade para o regulador de bitola de estágio 2 de estágio 2 da China Oxigênio

Breve descrição:

Regulador de pressão de aço inoxidável da série R11 é diafragma de estágio único, estrutura de diafragma inoxidável a vácuo. Possui estrutura de redução da pressão do pistão, pressão de saída constante, usada principalmente para alta pressão de entrada, adequada para gás purificado, gás padrão, gás corrosivo etc.

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Aplicativo :

1.Laboratório

2. Gas cromatografia

3.gas lasers

4.Gas Bus-Bar

5. Indústria de capitocímica

6. Equipamento de teste

Recurso de design:

Redutor de pressão de estágio único

Maternal e diafragma usam forma de vedação dura

Body NPT: 1/4 ”NPT (F)

A estrutura interna fácil de purgar

Pode definir filtros

Pode usar um painel ou montagem de parede

Parameentores de produto:

Pressão máxima de entrada	500.3000PSIG
Faixas de pressão de saída	0 ~ 25, 0 ~ 50, 0 ~ 50,0 ~ 250,0 ~ 500PSIG
Pressão do teste de segurança	1,5 vezes a pressão máxima de entrada
Temperatura operacional	-40 ° F a 165 ° F / -40 ° C a 74 ° C
Taxa de vazamento contra catmosfera	2*10-8ATM CC/s He
Valor do CV	0,08

Materiais:

Corpo	316L, Brass
Capô	316L. Latão
DIAFRAGM	316L
filtro	316L (10mm)
Assento	PCTFE, PTEE, VESPEL
Primavera	316L
Núcleo da válvula de êmbolo	316L

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R11	L	B	B	D	G	00	02	P
Item	Material corporal	Buraco corporal	Pressão de entrada	Tomada Pressão	Punção de pressão	Entrada tamanho	Tomada tamanho	Marca
R11	L: 316	A	D: 3000 psi	F: 0-500PSIG	G: MPA Guage	00: 1/4 ″ NPT (F)	00: 1/4 ″ NPT (F)	P: Montagem do painel
	B: Brass	B	E: 2200 psi	G: 0-250PSIG	P: PIG/BARAGEM	01: 1/4 ″ NPT (m)	01: 1/4 ″ NPT (m)	R: Com válvula de alívio
		D	F: 500 psi	K: 0-50pisg	W: Semreno	23: CGGA330	10: 1/8 ″ OD	N: Calve de agulha
		G		L: 0-25PSIG		24: CGGA350	11: 1/4 ″ OD	D: válvula diafregm
		J				27: CGGA580	12: 3/8 ″ OD
		M				28: CGGA660	15: 6mm od
						30: CGGA590	16: 8mm od
						52: G5/8 ″ -RH (f)
						63: W21.8-14H (F)
						64: W21.8-14LH (f)

Nas aplicações de células solares incluem especificamente aplicações de células solares, processo de produção de células solares de silício cristalino e aplicações de gás, processo de produção de células solares de filme fino e aplicações de gás; Em aplicações compostas de semicondutores, incluem especificamente aplicações compostas de semicondutores, processo de produção de MOCVD / LED e aplicações de gás; Em aplicações de exibição de cristal líquido incluem especificamente aplicativos TFT/LCD, TFT na aplicação da tela de cristal líquido, inclui a aplicação de TFT/LCD, o processo de produção de TFT/LCD e aplicação de gás; Na aplicação da fibra óptica, inclui a aplicação de fibra óptica e o processo de produção de pré -forma de fibra e aplicação de gás.