À medida que o mercado de semicondutores cresce, os padrões de pureza e precisão se tornam mais rigorosos. Um dos fatores determinantes na qualidade da fabricação de semicondutores são os gases utilizados no processo. Esses gases desempenham muitos papéis no processo de fabricação, incluindo:
Controle de processo de precisão
Prevenção de contaminação
Aprimoramento da propriedade metalúrgica
Para desempenhar essas funções de maneira eficaz, o sistema de fornecimento e distribuição de gás deve ser eficiente. O projeto de sistemas de manuseio de gás usado na fabricação de semicondutores deve ser suportado por componentes robustos e assembléias personalizadas para garantir uma produção confiável e de alta qualidade de semicondutores.
Gases usados na fabricação de semicondutores
O processo de fabricação semicondutores requer o uso de diferentes gases em diferentes estágios do processo.
Embora gases comuns, como nitrogênio, hidrogênio, argônio e hélio, possam ser usados em sua forma pura, certos processos podem exigir misturas especializadas. Silanos ou siloxanos, hexafluoridas, halogenetos e hidrocarbonetos são alguns dos gases especializados usados na fabricação de semicondutores. Muitos desses gases podem ser perigosos ou altamente reativos, criando desafios na seleção e design de componentes para sistemas de gás.
Aqui estão alguns exemplos:
\ Hidrogênio e hélio podem vazar facilmente dos sistemas de tubulação e ajuste devido ao seu pequeno tamanho e peso atômicos.
\ Silenes são altamente inflamáveis e podem combustar espontaneamente (autoignita) no ar.
O difluoreto de nitrogênio usado nos estágios de deposição, gravura e limpeza da câmara se torna um potente gás de efeito estufa quando vazado para o meio ambiente.
\ Fluoreto de hidrogênio (gás de gravação) é altamente corrosivo para a tubulação de metal.
\ Trimetilgallium e amônia podem ser difíceis de lidar - pequenas flutuações em seus requisitos de temperatura e pressão podem afetar o processo de deposição.
Controlar as condições do processo para minimizar os efeitos negativos desses gases devem ser uma prioridade máxima durante o design do sistema. É igualmente importante usar os componentes da mais alta qualidade, como válvulas de diafragma AFK durante o processo de construção.
Abordando os desafios do design do sistema
Os gases de grau de semicondutores são na maioria dos casos de alta pureza e fornecem condições inertes ou aprimoram as reações em diferentes estágios do processo de fabricação, como gases de gravação e deposição. Vazamento ou contaminação de tais gases podem ter efeitos negativos. Portanto, é crítico para os componentes do sistema costumavam ser hermeticamente selados e resistentes à corrosão, além de ter um acabamento superficial suave (polimento eletrolítico) para garantir que não haja possibilidade de contaminação e que um nível extremamente alto de limpeza possa ser mantido.
Além disso, alguns desses gases podem ser aquecidos ou resfriados para alcançar as condições desejadas do processo. Os componentes bem isolados garantem o controle da temperatura, o que é crítico para o desempenho eficiente do produto final.
Desde a entrada de origem até o ponto de uso, a ampla gama de componentes da AFK suporta a pureza ultra-alta, a temperatura, a pressão e o controle de fluxo exigido nas salas de limpeza semicondutor e nas câmaras de vácuo.
Sistemas projetados com componentes de qualidade em Fabs semicondutores
O papel dos componentes da qualidade e da otimização do design é fundamental para o controle preciso e a fabricação segura de semicondutores. Os componentes utilizados precisam ser robustos e livres de vazamentos para corresponder às diferentes condições do processo necessárias em diferentes estágios da fabricação. As válvulas de alta qualidade, os acessórios, os reguladores, a tubulação e os suportes de vedação da AFK são caracterizados pelos seguintes recursos:
Pureza ultra alta
Vedações sem vazamentos
Isolamento controlado por temperatura
Controle de pressão
Resistência à corrosão
Tratamento de polimento eletrolítico
Hora de postagem: Oct-09-2023